高光無(wú)熔接痕注塑可以從根本上解決**制品的問(wèn)題

高光無(wú)熔接痕注塑采取平均速熱速冷模腔的方式，高光無(wú)熔痕注塑成型理論建立在平均攝氏度場(chǎng)、應(yīng)力場(chǎng)、流場(chǎng)以及密度場(chǎng)及硬殼冷卻的基礎(chǔ)上。注射時(shí)，提前將模腔快速平均加熱至熔流體的熔融攝氏度，使射入的熔流體在充溢模腔的過(guò)程中，攝氏度非但沒(méi)有損失而且還得到一定的補(bǔ)充，因此消除了因溫差構(gòu)成 “ 熔接痕 ” 波紋 ” 浮纖 ” 光潔度 ” 光取向色差 ” 缺料 ” 等**的原由；冷卻時(shí)，將模腔壁快速平均降低至熔流體的玻璃化攝氏度以下，使充斥在模腔中的熔體與模腔壁接觸的外表快速構(gòu)成硬殼固化，硬殼內(nèi)心中的熔體則在補(bǔ)射壓力中逐步冷卻固化，高光無(wú)熔接痕注塑因此消除了因漸冷冷卻構(gòu)成 “ 縮癟 ” 應(yīng)力蓄積 ” 等**的原由。

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